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半導體領域


濺射靶材作為一種用于制備薄膜的材料,在半導體工業中扮演著關鍵角色。
靶材通過濺射工藝在半導體晶片表面沉積薄膜,實現對半導體器件導電性
能與電子遷移性能的精準控制。








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